（取自ASML 推特）
4月20日，根據《彭博社》消息，荷蘭阿斯麥公司（ASML）執行長溫寧克在財報發表後的投資者電話會議上表示，需求情況顯示，明年極紫外（EUV）和深紫外（DUV）曝光機的出貨量都將增加。
溫寧克表示，該公司仍「對長期成長機會充滿信心」。
阿斯麥是全球少數幾家能提供晶片曝光機的廠商之一，在主要用於7納米及以下先進工藝的EUV曝光機領域，阿斯麥是唯一的供應商。
此外，阿斯麥還向市場提供DUV曝光機，用於先進晶片生產。
財報顯示，阿斯麥第一季淨銷售額67億歐元，淨利潤20億歐元。
第一季，阿斯麥共售出100台光刻機，其中全新曝光機96台，二手曝光機4台，該季阿斯麥新增訂單金額為37.5億歐元，較上一季大幅下滑約40%。
本文為界面新聞授權刊登，原文標題為「阿斯麥CEO：明年EUV和DUV光刻機出貨量可能都將增加」