（取自Applied Materials, Inc.臉書粉專）
根據《路透社》和《彭博社》2月28日消息，總部位於美國加州的半導體設備商應用材料公司（Applied Materials, Inc.）開始銷售一款晶片製造設備，有望減少超強晶片的生產成本，降低晶片生產產業對ASML的依賴。
這款名為Centura Sculpta的圖形成型系統，可以幫助客戶減少微影時間，應用材料公司表示，微影技術日益複雜且成本昂貴，新的方法可簡化晶片生產流程、減少浪費。
應用材料公司在一份聲明中援引英特爾公司的說法稱，雙方在優化Centura Sculpta方面密切合作，英特爾將使用該技術。
本文為界面新聞授權刊登，原文標題為「挑戰ASML！應用材料推出新設備簡化芯片生產流程，英特爾已入局」